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膜厚分析仪的主要特点和试验步骤概述

发布时间: 2022-09-23  点击次数: 46次
   膜厚分析仪是想要知道薄膜厚度、光学常数,还是想要知道材料的反射率和透过率,都能满足您的需要。仅需花费几分钟完成安装,通过USB连接电脑,设备就可以在数秒内得到测量结果。基于模块化设计的特点,适用于各种应用。
 
  膜厚分析仪的主要特点:
  1、高强度照射
  通过高强度照射在微小部分也可以鲜明的观察、聚焦位置。
 
  2、薄膜多层膜测量
  通过采用新型的毛细管和X射线源,把与以往机型FT9500同等强度的X射线聚集在微小范围。因此,不会改变测量精度即可测量几十微米等级的微小范围。同时,也可对几十纳米等级的多镀层的各层膜厚进行高精度测量。
 
  3、异物分析
  通过高能量微小光束和高计数率检测器的组合,可进行微小异物的定性分析。利用CCD摄像头选定样品的异物部分并照射X射线,通过与正常部分的能谱差进行异物的定性分析。
 
  膜厚分析仪的试验步骤:
  1、取样:沿样品的纵向距端部横向截取试样,无折痕和其他缺陷。
 
  2、试样调湿和状态调节:按本规程规定进行。
 
  3、基准板、试样和千分表表头应无灰尘、油污。
 
  4、测量前将千分表放置在基准板上校准表读值基准点,测量后重新检查基准点是否变动。
 
  5、测量厚度时,要轻轻放下表侧头,待指针稳定后读数。

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